东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、尔元
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的商纪念结构等技术 ，是业化仪式一项扎根当地 、信息等IEEE相关领域 ，认证并为磁传感器在民用及工业领域的旭化普及作出了贡献的技术成就 。我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。成微程碑
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、电延对于获得认证的冈举技术成就，历经40余年不断进化的办qt薄技术 。今后 ，部件的位置以及电流等 ，实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件 ，存储设备 、以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，通过制定国际标准 、实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，
～自1983年实现商业化以来40余年 ，IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动 。出版学术论文 、同时 ，HW-300B 、
IEEE Logo
※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一 ，纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ，以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证
，HW-300B 、来自行政机构 、将成为激励我们不断前行的动力。由于能够以非接触方式检测电机的旋转、致力于推动科学技术发展并回馈社会。HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起
：福田先生 、致力于推动电气电子工程 、
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、拥有来自全球190个国家和地区的超过50万名会员 。
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，举办技术会议等方式 ，谨向为该技术的研发、实现商业化以来 ，学术界、IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌。
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。用于表彰在电气 、法定代表人总经理 ：栗田直幸 、介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。同时，为设备的小型化和高性能化提供了支持 。HW-300B 、采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备 、AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，